HCAM系列高压功率放大器：为压电陶瓷执行器驱动提供解决方案

在驱动压电陶瓷执行器时，常面临以下典型问题：

当对压电陶瓷执行器施加控制信号时，系统实际输出与理论响应之间存在差异：

1.响应延迟与运动畸变：期望的快速线性位移出现滞后，或由于信号波形畸变引入额外谐波，从而影响定位精度与系统带宽。

2.输出性能不足：部分应用需千伏级驱动电压，常规放大器难以满足，限制了执行器的潜在性能。

3.温升明显，稳定性下降：放大器能效较低，部分电能转化为热能，造成系统温度上升，引起信号漂移，长期可能影响设备可靠性。

4.数据可靠性问题：驱动信号中的噪声与失真导致实验数据出现波动，降低了测量结果的重复性与可信度。

上述问题的主要根源在于驱动系统的核心部件——功率放大器的性能。理想的驱动方案需能够为压电陶瓷类容性负载提供高电压、宽带宽与低噪声的高质量驱动信号。

HCAM系列高压功率放大器专为要求严苛的压电驱动及其他高压应用设计，兼顾稳定性与易用性，为控制系统提供有效支持。

HCAM系列高压功率放大器技术特点

压电陶瓷属于容性负载，在高速切换状态下会产生较高的冲击电流，对放大器的电压摆率与工作带宽提出较高要求。HCAM系列具备以下性能：

1. 高压与大功率输出

输出电压范围覆盖±1kV至±50kV，适应各类高压压电执行器的需求。

提供足够的电流与功率输出，确保在高频动态驱动过程中电压稳定，使执行器性能充分展现。

2. 宽带宽与高压摆率

3dB带宽可达数百kHz至MHz水平，能够无失真地放大高频控制信号，准确复现快速变化的波形。

高压摆率（单位V/μs）保障放大器对快速变化信号的响应能力，避免因压摆率限制造成波形畸变，从而支持高速高精度定位。

3. 四象限输出能力

支持四象限工作模式，既可作为源（Source）向负载提供电能，也可作为汇（Sink）吸收负载回馈能量。

在压电陶瓷快速收缩阶段，有效吸收其释放的能量，抑制输出电压过冲与振荡，确保运动过程平稳。

4. 高线性度与低噪声

具备较低的谐波失真（THD）与噪声基底，保障输出信号质量。

有助于实现高精度的位移控制，满足纳米级定位、扫描及高精度测量的需求。

5. 全面的保护机制

集成过压（OVP）、过流（OCP）、过温（OTP）及短路保护功能，确保放大器及所连接设备的安全性。

软启动电路可抑制开机瞬间的电流冲击。