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产品分类
Product Category详细介绍
| 品牌 | 华测仪器 | 产地类别 | 国产 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 能源,航空航天,汽车及零部件,电气,综合 |
华测仪器Huace-1200G真空单片晶圆退火处理系统
价格仅供参考，如需获取更详尽的产品技术规格书、定制方案或应用案例，欢迎致电我司技术工程师
Huace-1200G真空单片晶圆退火处理系统由华测仪器生产，是在真空环境下，对半导体晶圆进行高温热处理的设备，主要用于消除应力、优化材料结构、增加电学性能。设备的反射镜采用高准度曲率设计，通过五轴加工系统制造，以维持更高的反射效率。反射镜主要分为圆形和抛物线型两种，可满足不同材料在不同温度控制条件下的测试需求。
产品优势
高速加热与降温方式
高能量的红外灯和镀金反射方式允许高速加热到高温。同时炉体可配置水冷系统，增设气体降温装置，可实现快速冷却。
温度高准度控制
过红外镀金聚焦炉和温度控制器的组合使用，可以准确控制样品的温度(远比普通加温方式)。此外，降温速度和保持在不同温度下可提供高准度
不同环境下的加热与降温
加热/降温可用真空、气氛环境、低温(高纯度性气体 静态或流动)操作简单，使用石英玻璃制成。红外线可传到加热/ 降温室。
产品参数
产品型号：Huace-1200G
产品尺寸：6寸晶圆或150 x 150mm产品
温度范围：RT~1200°C
升温速度：＜25℃/s（SiC载盘）
温度均匀度：±5 °C ≤ 500 ℃
温度控制重复性：±1 °C
温控方式：PID 温控
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