真空晶圆退火炉-北京华测试验仪器有限公司

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Huace-1450G半导体晶圆真空热处理平台

更新时间：2026-09-17

型号：Huace-1450G

浏览量：109

华测仪器Huace-1450G半导体晶圆真空热处理平台设备的反射镜采用高准度曲率设计，通过五轴加工系统制造，以维持更高的反射效率。
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Huace-1200G真空单片晶圆退火处理系统

更新时间：2026-09-17

型号：Huace-1200G

浏览量：90

华测仪器Huace-1200G真空单片晶圆退火处理系统采用高准度、高反射率抛物面搭配高性能加热源，进行宽范围均热区、高速加热与高速降温。
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Huace-800G高真空晶圆热处理退火装置

更新时间：2026-09-17

型号：Huace-800G

浏览量：111

华测仪器Huace-800G高真空晶圆热处理退火装置是在真空环境下，对半导体晶圆进行高温热处理的设备，主要用于消除应力、优化材料结构、增加电学性能。
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Huace-1200G高温真空退火炉

更新时间：2026-04-08

型号：Huace-1200G

浏览量：832

华测仪器Huace-1200G高温真空退火炉设备的反射镜采用高准度曲率设计，通过五轴加工系统制造，以维持更高的反射效率。
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Huace-800G真空晶圆退火炉

更新时间：2026-04-02

型号：Huace-800G

浏览量：927

华测仪器Huace-800G真空晶圆退火炉是在真空环境下，对半导体晶圆进行高温热处理的设备，主要用于消除应力、优化材料结构、增加电学性能。
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